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一文搞懂勻膠機(jī)旋涂?jī)x的工作原理

更新日期:2022-08-12      點(diǎn)擊次數(shù):2096
  勻膠機(jī)旋涂?jī)x廣泛應(yīng)用于MEMS微加工、生物、材料等領(lǐng)域。它可用于制備厚度小于10nm的薄膜。它也常用于厚度約為1-100微米的光刻膠沉積層的光刻工藝中。許多平面基板材料可用于涂層,如半導(dǎo)體硅片、載玻片、晶片、基板、ITO導(dǎo)電玻璃等。
 
  勻膠機(jī)旋涂?jī)x的工作原理:
 
  通過(guò)在晶片支架上產(chǎn)生負(fù)壓,待旋涂的基材吸附在晶片架上,膠水滴在基材表面。通過(guò)精確調(diào)節(jié)電機(jī)的轉(zhuǎn)速來(lái)改變離心力。同時(shí),滴膠裝置控制膠水的流速,以達(dá)到制備薄膜所需的厚度。此外,涂膜厚度還取決于旋涂時(shí)間、膠液粘度、涂膜溫度和濕度等環(huán)境因素。
 
  靜態(tài)滴加是簡(jiǎn)單地將光刻膠滴到靜態(tài)襯底表面的中心,滴加量為1-10ml。滴膠量應(yīng)根據(jù)光致抗蝕劑的粘度和基材的尺寸確定。如果粘度高或基材大,通常需要滴更多的膠水,以確保在高速旋轉(zhuǎn)階段整個(gè)基材都涂上膠水。
 
  動(dòng)態(tài)滴下方法是在基板以低速旋轉(zhuǎn)時(shí)滴下光致抗蝕劑。“動(dòng)態(tài)”功能是使光刻膠易于在基板上擴(kuò)散,減少光刻膠的浪費(fèi)。動(dòng)態(tài)滴涂法可以在沒有大量光刻膠的情況下濕潤(rùn)整個(gè)基板表面。特別是當(dāng)光致抗蝕劑或基板本身的潤(rùn)濕性不好時(shí),動(dòng)態(tài)滴膠特別適用,不會(huì)產(chǎn)生針孔。
 
  滴膠后,下一步是高速旋轉(zhuǎn)。光致抗蝕劑層被減薄以達(dá)到最終所需的膜厚度。旋轉(zhuǎn)速度的選擇還取決于光致抗蝕劑的性能(包括粘度、溶劑揮發(fā)速度、固體含量和表面張力等)和基底的尺寸。快速旋轉(zhuǎn)的時(shí)間范圍從10秒到幾分鐘。均勻化的速度和時(shí)間通常決定最終膜的厚度。
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